OLED顯示技術作為一種主動式發(fā)光技術，經過十多年的發(fā)展后終于在小尺寸手機和大尺寸電視市場取得了一定的突破，并以其絕佳的色彩、對比和未來在柔性上的前景，越來越受到消費者的喜愛。但說到OLED，就不得不提到OLED工藝技術之痛（瓶頸技術）—蒸鍍。

由于OLED器件中有機薄膜的總膜厚為100～200nm，而且是有機材料，在CVD、蒸鍍、涂布、印刷等成膜技術中，目前量產性較好的就是蒸鍍技術了（尤其對小分子OLED材料來說）。

蒸鍍在OLED制造工藝中應用，它的好壞直接影響到OLED屏幕顯示，另外，目前主要蒸鍍關鍵技術和設備掌握在日本廠家手中（OLED屏制造的代表——三星，它使用的蒸鍍機就是佳能旗下的子公司——CanonTokki。），且市場蒸鍍設備也不多，這也是OLED屏幕成本高的一個重要原因。

真空蒸鍍

這里蒸鍍就是真空中通過電流加熱，電子束轟擊加熱和激光加熱等方法，使被蒸材料蒸發(fā)成原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基片表面而凝結，形成薄膜。在較高的真空度下：不僅蒸發(fā)出來的物質原子或分子具有較長的平均自由程，可以直接沉積到襯底表面上;還可以確保所制備的薄膜具有較高的純凈度。

OLED顯示技術——蒸鍍

主要應用于RGB（紅綠藍）三色排列的典型OLED屏幕。我們所知蒸鍍是OLED制造工藝的精華部分，而且不僅是發(fā)光材料，金屬電極等等之類也是這么蒸上去的。但實際操作還是非常復雜的，比如如何控制像素區(qū)域，像素要怎么對齊，還有控制蒸上去的薄膜厚度，什么前處理、蒸鍍室的真空度等。