Si-Al靶材，Si含量從50%～90%范圍內可調控。材料組織均勻性好、致密度高，晶粒細小。

技術參數：采用采用粉末冶金的方法制成，純度≥99.9%，相對密度大于99%，尺寸根據客戶要求定。

主要用途：用于玻璃鍍膜、太陽能電池鍍膜、觸摸屏鍍膜、LCD鍍膜及半導體行業(yè)，電子封裝等。