磁控濺射方法可用于制備多種材料,如金屬、半導體、絕緣子等。它具有設備簡單、易于控制、涂覆面積大、附著力強等優(yōu)點。磁控濺射發(fā)展至今,除了上述一般濺射方法的優(yōu)點外,還實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。
以下是磁控濺射的六大應用
● 各種功能薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能。例如,在低溫下沉積氮化硅減反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。 ● 微電子:可作為非熱鍍膜技術,主要用于化學氣相沉積(CVD)。 ● 裝飾領域的應用:如各種全反射膜和半透明膜;比如手機殼、鼠標等。 ● 一些不適合化學氣相沉積(MOCVD)的材料可以通過磁控濺射沉積,這種方法可以獲得均勻的大面積薄膜。 ● 機械工業(yè):如表面功能膜、超硬膜、自潤滑膜等。這些膜能有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性,從而大大提高產(chǎn)品的使用壽命。 ● 光領域:閉場非平衡磁控濺射技術也已應用于光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃。特別是,透明導電玻璃廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波和射頻屏蔽器件和器件、傳感器等。 除上述領域外,磁控濺射在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發(fā)光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜的研究中也發(fā)揮著重要作用。